Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии

Intel не выказывает заинтересованности в EUV-литографии
ФОТО: 3dnews.ru

Мы не раз отмечали, что 2017 год стал годом сдвига процессов в подготовке перехода на полупроводниковую литографию с использованием проекции в крайнем или жёстком ультрафиолетовом диапазоне (EUV). Нидерландская компания ASML оформила заказы на 21 установку NXE:3400B - это первые сканеры, которые получили статус готовых к коммерческому производству.

Типичный современный литографический сканер компании ASML для выпуска полупроводников.

intel выказывает заинтересованности euv-литографии

2017-10-11 09:42